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●機器名
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イオンミリング
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| ●概 要 |
SEM試料に遮蔽板をセットして、遮蔽板から突き出した試料部分にブロードアルゴンイオンビームを照射して遮蔽板のエッジに沿って断面を作製する装置です。
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| ●型 式 |
日本電子/IB-19520CCP+IB-10500HMS
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| ●仕 様 |
仕様：ハイスプールプット仕様
イオン加速電圧：2～10kV ミリングスピード：1200μm/H（加速電圧10kV） 試料ステージ冷却：-120℃以下 |
| ●活用事例 | デバイスの断面作製 |
| ●担 当 | 工業化学担当 |